제품 설명
사이클로 헥산은 무엇입니까?
사이클로 헥산은 표면 장력이 낮고 가용성이 높은 무색의 휘발성 유기 용매입니다. CAS 번호는 {{0}}이고, Einecs 번호는 203-806-2이고 화학적 공식은 c₆h₁₂이고 분자량은 84.16입니다. 밀도는 0.77이고, 용융점은 6.5도, 끓는점은 81도입니다. 플래시 포인트는 -18 정도이며, 물에 거의 불용성이며, 37.7 도의 증기 압력은 168.8 mmhg이며, 공기에 대한 증기 밀도는 2.9입니다.


기본 정보
| CAS 번호 | 110-82-7 |
| EINECS 번호 | 203-806-2 |
| 화학식 | C₆H₁₂ |
| 분자량 | 84.16 |
| 밀도 | 0.77 |
| 녹는 점 | 6.5 학위 |
| 비등점 | 81 학위 |
| 인화점 | -18 학위 |
용도
Cyclohexane은 Photoresist 용매로서 다음과 같은 장점을 가지고 있습니다.
- 우수한 용해도 : 포토 레스터에서 수지 및 감광제와 같은 다양한 성분에 대한 용해도가 우수하며, 이들 성분을 용액에 골고루 분산시키기 위해 안정적이고 균일 한 포토 레지스트 시스템을 형성 할 수 있으며, 이는 기판상의 균일 한 저항 필름의 후속 형성에 도움이된다.
- 낮은 끓는점과 변동성 : 끓는점은 약 81도이며 상대적으로 낮습니다. 포토 레지스트가 코팅 된 후에는 신속하게 증발하여 저항 필름을 빠르게 건조시켜 처리 시간을 단축하고 생산 효율을 향상시킬 수 있습니다. 더욱이, 포토 리소그래피 과정에서, 광화학 반응 및 패턴 전달의 정확도는 용매 잔기에 의해 영향을받지 않을 것이다.
- 높은 화학적 안정성 : 화학적 안정성이 높고 포토 레지스트의 구성 요소와 화학적으로 반응하기 쉽지 않으며, 광선 그래피 공정에서 빛, 발달 등의 조건 하에서 분해되거나 악화되기 쉽지 않습니다. 그것은 포토 레지스트의 성능의 안정성을 보장하고 포토 리소그래피 패턴의 품질과 정확성을 보장 할 수 있습니다.
- 낮은 표면 장력 : 사이클로 헥산은 표면 장력이 낮으므로 포토 레지스트 용액이 코팅 중에 기판 표면에 더 잘 퍼져 균일하고 평평한 저항 필름을 형성하여 포토 리소그래피의 해상도를 개선하고 고르지 않은 필름 두께 또는 불균일 한 표면으로 인한 패턴 결함을 감소시키는 데 유리합니다.
- 비용 효율성 : 광범위한 소스가있는 비교적 흔하고 저렴한 유기 용매입니다. 대량 생산 포토리스트 일 때, 사이클로 헥산을 용매로 사용하면 생산 비용을 줄이고 경제적 실용성이 우수합니다.
안전 정보
점화원에서 멀리하십시오.
눈과의 접촉을 피하십시오.
정전기의 생성을 방지하기 위해 예방 조치를 취하십시오.
이 재료와 용기를 유해 폐기물로 폐기하십시오.
환경으로의 방출을 피하십시오. 특별 지침/안전 데이터 시트를 참조하십시오.
삼키면 구토를 유도하지 마십시오. 즉시 의학적 조언을 구하고 컨테이너 나 레이블을 보여줍니다.
컨테이너는 환기가 잘되는 곳에 보관하십시오.

회사 프로필
gneebio식물 화학 물질 및 미세 화학의 연구, 개발, 생산 및 판매를 전문으로하는 기업입니다. 우리의 공장은 2016 년에 설립되었으며 Henan Province에 위치하고 있으며 3,600 평방 미터의 면적을 포함합니다. 우리는 10 년 이상의 R & D 경험을 가진 전문적이고 잘 갖추어 진 고품질 R & D 팀을 보유하고 있습니다. 우리의시약제품은 미국, 러시아, 캐나다, 호주, 유럽 등을 포함한 많은 국가로 널리 수출되며 고객에게 빠른 운송 서비스를 제공합니다. 우리는 미래에 더 많은 친구들과 장기적이고 상호 유익한 협력을 구축하고 고객에게 최고의 제품 및 서비스를 제공하기를 희망합니다.
우리의 인기있는 제품에는 유기농 화학 물질이 포함됩니다.cas : 3327-22-8 cta, cas 27126-76-7 페닐 리오도 소 하이드 록시 토실 레이트, 촉매 :cas 110-02-1 Thiophene다른 것 중에서도.




FAQ
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예, 우리는 할 수 있습니다.
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