티타늄 실리사이드, 티타늄 디실리사이드(TiSi2) 티타늄과 실리콘의 무기 화합물입니다. 티타늄 디실리사이드는 저항률이 낮고 내열성이 높으며 안정성이 좋다는 장점이 있어 마이크로 전자공학, 항공 내열성 재료 및 코팅 재료 및 기타 분야에 널리 사용될 수 있습니다.
응용티타늄 실리사이드(TiSi₂) 분말
- 반도체 산업: MOS, MOSFET 및 DRAM 기술의 게이트, 소스, 드레인, 상호 연결 및 저항 접점 제조에 널리 사용됩니다. 첨단 반도체 장치의 전기적 성능과 신뢰성을 향상시킵니다.
- 장벽층: 전자 장치에서 티타늄 규화물 장벽층을 제조하는 데 사용됩니다. 이는 공정 안정성을 향상시키고 장벽층의 식각 손실을 줄이며 제조 비용을 낮춥니다.
- 강화 복합재: 티타늄₅실리콘₃ 입자가 포함된 티타늄₃알루미늄 카바이드(Ti₃AlC2) 복합재를 첨가하여 기계적 강도와 내열성을 향상시켰습니다.
- 유리 기능성 코팅: 유리에 복합 코팅으로 적용하여 기계적 강도, 내식성, 밝기 조절 및 단열 특성을 향상시킵니다. 실리콘, 탄소 또는 질소와 결합하면 실리콘 카바이드, 티타늄 카바이드 및 티타늄 질화물과 같은 고급 다기능 코팅이 형성될 수 있습니다.
- 전자 부품: 반도체 부품용.
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